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薄膜物理與器件 版權信息
- ISBN：9787118072389
- 條形碼：9787118072389 ; 978-7-118-07238-9
- 裝幀：暫無
- 冊數：暫無
- 重量：暫無
- 所屬分類：>>
薄膜物理與器件 內容簡介
《薄膜物理與器件》主要論述了薄膜物理與薄膜器件的基本內容，并概括介紹了在新材料技術領域中有著重要應用的幾類主要的薄膜材料。書中比較系統地介紹了薄膜的物理化學制備原理與方法，包括蒸發鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍、化學氣相沉積、溶液制膜技術等；同時介紹了薄膜的形成，薄膜的結構與缺陷，薄膜的電學性質、力學性質、半導體性質、磁學性質、超導性質等；此外，還扼要介紹了幾類重要薄膜材料及其性能，分析歸納了相關研究發展動態。 《薄膜物理與器件》可作為材料科學與工程、電子科學與工程、電子材料與元器件、半導體物理與器件、應用物理學等專業的教材或教學參考書，也可供相關科技、企業、公司的管理和技術人員參考。
薄膜物理與器件 目錄
**章 真空技術基礎
1.1 真空基礎
1.2 稀薄氣體的性質
1.3 真空的獲得
1.4 真空的測量
習題與思考題
第二章 薄膜的物理制備工藝學
2.1 薄膜制備方法概述
2.2 真空蒸發鍍膜
2.3 濺射鍍膜
2.4 離子束鍍膜
2.5 分子束外延技術
2.6 脈沖激光沉積技術
習題與思考題
第三章 薄膜的化學制備工藝學
1.1 真空基礎
1.2 稀薄氣體的性質
1.3 真空的獲得
1.4 真空的測量
習題與思考題
第二章 薄膜的物理制備工藝學
2.1 薄膜制備方法概述
2.2 真空蒸發鍍膜
2.3 濺射鍍膜
2.4 離子束鍍膜
2.5 分子束外延技術
2.6 脈沖激光沉積技術
習題與思考題
第三章 薄膜的化學制備工藝學
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