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高性能MEMS慣性器件技術 版權信息
- ISBN：9787515924496
- 條形碼：9787515924496 ; 978-7-5159-2449-6
- 裝幀：精裝
- 冊數：暫無
- 重量：暫無
- 所屬分類：>
高性能MEMS慣性器件技術 內容簡介
本書從MEMS慣性器件研究和設計的角度，系統論述了高性能MEMS慣性器件的工作原理、誤差機理、設計與工藝技術等方面的理論、方法和關鍵技術。全書共6章，主要包括MEMS陀螺儀和MEMS加速度計的基本原理、MEMS陀螺儀典型結構及誤差機理、高性能MEMS陀螺儀關鍵技術、MEMS加速度計典型結構及誤差機理、高性能MEMS加速度計關鍵技術以及高性能MEMS慣性器件工藝技術等內容。本書注重研究內容的系統性、創新性和實用性，研究內容、理論方法與工程實踐緊密結合，可供從事MEMS慣性器件、慣性導航與控制系統技術研究和產品研制的科技人員和高等院校相關專業師生參考。
高性能MEMS慣性器件技術高性能MEMS慣性器件技術 前言
MEMS慣性器件是基于微電子工藝加工制造的新型慣性儀表,是慣性技術與 MEMS
技術交叉融合的產物,是新一代慣性器件的重要發展方向之一。MEMS陀螺儀屬于哥氏
振動陀螺儀的一種,MEMS加速度計也是基于慣性原理的精密傳感儀表,因而從工作原
理上看,MEMS慣性器件與傳統機電式慣性儀表在本質上是一致的。使 MEMS慣性器件
有別于其他慣性器件的重要原因在于其制造方式的革命性變化,即它利用硅材料并通過微
電子工藝進行批量制造,因而可以大幅降低慣性器件的尺寸、功耗和批量成本,并易于數
字化、易于集成,使慣性器件的應用領域得以大幅拓展。隨著設計水平和 MEMS加工工
藝水平的逐步提高及其檢測控制電路和誤差抑制方法的不斷優化,MEMS慣性器件的精
度也在逐漸提高,目前已實現導航級精度水平。MEMS慣性器件是航空制導炸彈、制導
高性能MEMS慣性器件技術 目錄
第1章 概 述 1
1.1 微小型慣性器件技術發展概況 1
1.1.1 慣性器件技術概述 1
1.1.2 微小型陀螺儀技術發展概況 2
1.1.3 微小型加速度計技術發展概況 19
1.1.4 高性能 MEMS慣性器件的主要特征 27
1.2 MEMS慣性器件關鍵技術 29
1.2.1 MEMS慣性器件結構設計技術 29
1.2.2 MEMS慣性器件工藝制造技術 32
1.2.3 MEMS慣性器件專用集成電路技術 36
1.3 MEMS慣性器件性能指標體系 39
1.3.1 常規物理特性指標 40
1.3.2 靜態精度指標 40
1.3.3 動態性能指標 42
1.3.4 環境適應性指標 43
1.4 MEMS慣性器件發展及應用趨勢 44
第2章 MEMS陀螺儀典型結構及誤差機理 47
2.1 MEMS陀螺儀工作原理 47
2.1.1 哥氏效應原理 47
2.1.2 MEMS陀螺儀動力學方程 49
2.1.3 靜電驅動原理 51
2.1.4 電容檢測原理 52高性能 MEM技術
2.2 MEMS陀螺儀的常見典型結構形式 53
2.2.1 線振動式 MEMS陀螺儀 53
2.2.2 角振動式 MEMS陀螺儀 66
2.2.3 振動環式 MEMS陀螺儀 69
2.3 MEMS陀螺儀典型結構設計 75
2.3.1 雙質量塊 MEMS陀螺儀典型結構設計 76
2.3.2 四質量塊 MEMS陀螺儀典型結構設計 83
2.4 單片三軸 MEMS陀螺儀典型結構 87
2.4.1 單片三軸 MEMS陀螺儀概述 87
2.4.2 三軸敏感結構相對獨立的結構方案 87
2.4.3 水平雙軸敏感 z 軸敏感的結構方案 88
2.4.4 三軸一體化設計方案 91
2.5 典型 MEMS陀螺儀誤差機理分析 97
2.5.1 MEMS陀螺儀隨機誤差 98
2.5.2 MEMS陀螺儀正交耦合誤差 101
2.5.3 MEMS陀螺儀同相耦合誤差 104
2.5.4 MEMS陀螺儀g 敏感性誤差 106
2.5.5 MEMS陀螺儀溫度誤差 106
2.5.6 MEMS陀螺儀力學環境誤差 110
2.6 MEMS陀螺儀誤差抑制方法 116
2.6.1 MEMS陀螺儀噪聲抑制 117
2.6.2 MEMS陀螺儀正交誤差抑制方法 118
2.6.3 MEMS陀螺儀溫度誤差抑制與補償技術 121
2.6.4 MEMS陀螺儀非線性誤差抑制技術 125
第3章 高性能 MEMS陀螺儀關鍵技術 127
3.1 高性能 MEMS陀螺儀驅動與信號檢測技術 127
3.1.1 微小電容檢測技術 127
3.1.2 MEMS陀螺儀驅動控制技術 131
3.1.3 MEMS陀螺儀解調檢測技術 133
3.2 高性能 MEMS陀螺儀閉環控制技術 136
3.2.1 檢測軸力平衡閉環技術 137
3.2.2 MEMS陀螺儀正交剛度校正技術 141
3.2.3 檢測軸頻率調諧技術 143
3.3 高性能 MEMS陀螺儀控制電路技術 146
3.3.1 MEMS陀螺儀 ASIC的主要功能構成 147
3.3.2 MEMS陀螺儀模擬驅動電路 148
3.3.3 MEMS陀螺儀模擬檢測電路 149
3.3.4 MEMS陀螺儀數字控制電路 150
3.3.5 MEMS陀螺儀 ASIC中的其他重要模塊 154
3.4 應用環境條件下高性能 MEMS陀螺儀精度提高技術 156
3.4.1 高性能 MEMS陀螺儀長期穩定性技術 156
3.4.2 溫度環境條件下精度保持技術 158
3.4.3 振動沖擊等力學環境下精度保持技術 162
3.5 應用條件下高性能 MEMS陀螺儀相關工程性能提升技術 164
3.5.1 高性能 MEMS陀螺儀量程設計 164
3.5.2 MEMS陀螺儀快速啟動技術 166
3.5.3 MEMS陀螺儀帶寬設計 171
3.6 高性能 MEMS陀螺儀相關測試技術 176
3.6.1 高性能 MEMS陀螺儀測試的特點 177
3.6.2 高性能 MEMS陀螺儀溫度環境精度測試 177
3.6.3 陀螺儀力學環境特性測試 180
3.7 動態應用環境下典型高性能 MEMS陀螺儀性能提升技術 183
3.7.1 彈旋頻率測量用大量程 MEMS陀螺儀性能提升技術 184
3.7.2 高速旋轉導彈偏航 MEMS陀螺儀性能提升技術 191
第4章 MEMS加速度計典型結構及誤差機理 198
4.1 MEMS加速度計工作原理 198
4.2 MEMS加速度計典型結構形式 199
4.2.1 “三明治”式 MEMS加速度計 199
4.2.2 梳齒式 MEMS加速度計 200
4.2.3 扭擺式 MEMS加速度計 202
4.2.4 諧振式 MEMS加速度計 203
4.3 典型 MEMS加速度計結構設計 205
4.3.1 “三明治”MEMS加速度計結構設計 205
4.3.2 梳齒式 MEMS加速度計結構設計 207 器件技術
4.3.3 扭擺式 MEMS加速度計結構設計 210
4.3.4 諧振式 MEMS加速度計結構設計 211
4.4 單片三軸 MEMS加速度計結構設計 218
4.4.1 單敏感質量結構 218
4.4.2 多敏感質量結構 220
4.5 MEMS加速度計誤差機理分析 224
4.5.1 MEMS加速度計誤差模型 224
4.5.2 MEMS加速度計的本征性誤差 225
4.5.3 MEMS加速度計的環境因素誤差 231
4.5.4 MEMS加速度計誤差抑制方法 235
4.6 MEMS加速度計工程化需考慮的因素 238
4.6.1 結構設計及加工中的工程化考慮因素 238
4.6.2 電路設計中的工程化考慮因素 240
4.6.3 測試與補償中的工程化考慮因素 240
第5章 高性能 MEMS加速度計關鍵技術 241
5.1 高性能 MEMS加速度計結構設計技術 241
5.1.1 高性能 MEMS加速度計綜合精度提升技術 241
5.1.2 高性能 MEMS加速度計全溫性能結構優化技術 247
5.1.3 高性能 MEMS加速度計抗高過載技術 250
5.2 高性能 MEMS加速度計控制系統 255
5.2.1 高性能 MEMS加速度計閉環控制系統模型 255
5.2.2 高性能 MEMS加速度計電學模型化技術 256
5.3 高性能 MEMS加速度計控制電路技術 259
5.3.1 高性能 MEMS加速度計閉環反饋控制技術 259
5.3.2 高性能 MEMS加速度計前端放大器低噪聲技術 260
5.3.3 高性能 MEMS加速度計 PID電路設計 261
5.3.4 高性能 MEMS加速度計高壓電荷泵設計 262
5.3.5 高性能 MEMS加速度計 ΣΔ接口電路技術 263
5.4 應用環境條件下高性能 MEMS加速度計精度提高技術 266
5.4.1 采用全硅結構對其溫度性能的提升 266
5.4.2 加速度計應力對消結構設計 268
5.4.3 加速度計應用系統級的溫度補償 272
5.4.4 適度的老化試驗 272
5.5 高性能 MEMS加速度計相關工程性能設計技術 275
5.5.1 寬頻帶應用領域高性能 MEMS加速度計帶寬設計技術 275
5.5.2 高低溫環境下高性能 MEMS加速度計性能提升技術 276
5.5.3 力學環境下高性能 MEMS加速度計性能提升技術 287
5.5.4 高性能 MEMS加速度計可靠性評估技術 292
5.6 高性能 MEMS加速度計相關測試技術 294
5.6.1 全溫零偏穩定性及全溫標度因數穩定性測試 294
5.6.2 全溫變溫輸出穩定性及零偏溫度滯環測試 296
5.6.3 全溫度域穩定性及重復性測試 297
5.6.4 長期重復性測試 298
5.6.5 加速度計環境適應性測試 300
5.6.6 頻帶特性測試 303
5.6.7 空間環境適應性測試 304
5.6.8 高性能 MEMS加速度計在慣性測量組合振動條件下的性能測試 307
第6章 高性能 MEMS慣性器件工藝技術 309
6.1 MEMS慣性器件制造的主要工藝路線 309
6.1.1 表面硅加工技術 309
6.1.2 體硅加工技術 310
6.2 高性能 MEMS慣性器件制造中的單項基礎工藝 313
6.2.1 光刻工藝 313
6.2.2 氧化工藝 315
6.2.3 薄膜沉積工藝 315
6.2.4 濕法腐蝕工藝 316
6.2.5 干法刻蝕工藝 318
6.2.6 晶圓鍵合工藝 323
6.3 高性能 MEMS慣性器件集成制造技術 329
6.3.1 MEMS芯片晶圓級封裝制造技術 330
6.3.2 全硅晶圓級封裝 “三明治”式加速度計集成制造技術 331
6.3.3 晶圓級真空封裝 MEMS陀螺儀集成制造技術 336
6.3.4 單片多軸 MEMS慣性器件集成制造技術 337
6.4 高性能 MEMS慣性器件晶圓級真空封裝關鍵工藝技術 339 MEMS慣性器件
6.4.1 預埋腔體SOI制造技術 340
6.4.2 Au Si共晶鍵合技術 349
6.4.3 吸氣劑制備與應用技術 354
6.5 高性能 MEMS慣性器件芯片測試技術 361
6.5.1 MEMS芯片工藝過程測試 361
6.5.2 MEMS芯片綜合測試 367
6.5.3 MEMS慣性器件芯片與 ASIC接口電路匹配性測試 370
6.6 高性能 MEMS慣性器件封裝技術 371
6.6.1 MEMS器件封裝的作用和主要形式 371
6.6.2 MEMS慣性器件晶圓級封裝工藝 374
6.6.3 MEMS慣性器件單芯片封裝工藝 375
6.6.4 MEMS慣性器件系統級封裝工藝 377
6.7 關于高性能 MEMS慣性器件工藝技術的認識和體會 379
縮略語 380
參考文獻 384
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